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Alumine et Atomic layer deposition

Raccourcis: Différences, Similitudes, Jaccard similarité Coefficient, Références.

Différence entre Alumine et Atomic layer deposition

Alumine vs. Atomic layer deposition

L'alumine, ou oxyde d'aluminium, est un composé chimique de formule. L’atomic layer deposition (ALD) est un procédé de dépôt de couches minces atomiques.

Similitudes entre Alumine et Atomic layer deposition

Alumine et Atomic layer deposition ont une chose en commun (en Unionpédia): Couche mince.

Couche mince

Une couche mince est un revêtement dont l’épaisseur peut varier de quelques couches atomiques à une dizaine de micromètres.

Alumine et Couche mince · Atomic layer deposition et Couche mince · Voir plus »

La liste ci-dessus répond aux questions suivantes

Comparaison entre Alumine et Atomic layer deposition

Alumine a 137 relations, tout en Atomic layer deposition a 7. Comme ils ont en commun 1, l'indice de Jaccard est 0.69% = 1 / (137 + 7).

Références

Cet article montre la relation entre Alumine et Atomic layer deposition. Pour accéder à chaque article à partir de laquelle l'information a été extraite, s'il vous plaît visitez:

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