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Dépôt chimique en phase vapeur et Vide (physique)

Raccourcis: Différences, Similitudes, Jaccard similarité Coefficient, Références.

Différence entre Dépôt chimique en phase vapeur et Vide (physique)

Dépôt chimique en phase vapeur vs. Vide (physique)

Schéma d'un CVD Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l'anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux. En physique, le vide est l'absence de toute matière.

Similitudes entre Dépôt chimique en phase vapeur et Vide (physique)

Dépôt chimique en phase vapeur et Vide (physique) ont 3 choses en commun (em Unionpédia): Millimètre de mercure, Pascal (unité), Pression atmosphérique.

Millimètre de mercure

Le millimètre de mercure (symbole mmHg) ou torr (symbole Torr) est une unité de mesure de la pression.

Dépôt chimique en phase vapeur et Millimètre de mercure · Millimètre de mercure et Vide (physique) · Voir plus »

Pascal (unité)

Le pascal, de symbole Pa, est l'unité de pression ou de contrainte du Système international d'unités (SI).

Dépôt chimique en phase vapeur et Pascal (unité) · Pascal (unité) et Vide (physique) · Voir plus »

Pression atmosphérique

Pression de l'air p en fonction de l'altitude h. Formule du nivellement barométrique: p(h).

Dépôt chimique en phase vapeur et Pression atmosphérique · Pression atmosphérique et Vide (physique) · Voir plus »

La liste ci-dessus répond aux questions suivantes

Comparaison entre Dépôt chimique en phase vapeur et Vide (physique)

Dépôt chimique en phase vapeur a 15 relations, tout en Vide (physique) a 146. Comme ils ont en commun 3, l'indice de Jaccard est 1.86% = 3 / (15 + 146).

Références

Cet article montre la relation entre Dépôt chimique en phase vapeur et Vide (physique). Pour accéder à chaque article à partir de laquelle l'information a été extraite, s'il vous plaît visitez:

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