Accès plus rapide que le navigateur!Similitudes entre Dépôt de couche mince et Dépôt physique par phase vapeur
Dépôt de couche mince et Dépôt physique par phase vapeur ont 5 choses en commun (em Unionpédia): Épitaxie par jet moléculaire, Couche mince, Dépôt chimique en phase vapeur, Electron beam physical vapor deposition, Pulvérisation cathodique.
Épitaxie par jet moléculaire
L'épitaxie par jets moléculaires (ou MBE pour Molecular Beam Epitaxy) est une technique consistant à envoyer un ou plusieurs jets moléculaires vers un substrat préalablement choisi pour réaliser une croissance épitaxiale.
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Couche mince
Une couche mince est un revêtement dont l’épaisseur peut varier de quelques couches atomiques à une dizaine de micromètres.
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Dépôt chimique en phase vapeur
Schéma d'un CVD Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l'anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux.
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Electron beam physical vapor deposition
Evaporateur métallique « E-gun » utilisé au centre de recherche « Thales Research & Technology » du milieu des années 80 jusqu’en 2004 pour l’évaporation des sandwichs métalliques de contact ohmique et de grille. L’évaporation par faisceau d’électrons (aussi évaporation par faisceau électronique; en anglais: Electron-beam physical vapor deposition / EBPVD, aussi simplement electron-beam evaporation) est une forme de dépôt physique en phase gazeuse, plus spécifiquement d’évaporation sous vide, dans laquelle une anode cible sous vide poussé est bombardée par un faisceau d’électrons émis par un canon à électrons.
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Pulvérisation cathodique
Pulvérisation cathodique magnétron en cours de dépôt de couche mince La pulvérisation cathodique (ou sputtering) est un phénomène dans lequel des particules sont arrachées à une cathode dans une atmosphère raréfiée.
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La liste ci-dessus répond aux questions suivantes
- Dans ce qui semble Dépôt de couche mince et Dépôt physique par phase vapeur
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- Similitudes entre Dépôt de couche mince et Dépôt physique par phase vapeur
Comparaison entre Dépôt de couche mince et Dépôt physique par phase vapeur
Dépôt de couche mince a 38 relations, tout en Dépôt physique par phase vapeur a 9. Comme ils ont en commun 5, l'indice de Jaccard est 10.64% = 5 / (38 + 9).
Références
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