Accès plus rapide que le navigateur!Similitudes entre Dépôt de couche mince et Pulvérisation cathodique
Dépôt de couche mince et Pulvérisation cathodique ont 4 choses en commun (em Unionpédia): Atome, Couche mince, Nanomètre, Substrat (électronique).
Atome
hélium 4, agrandi à droite, est formé de deux protons et de deux neutrons. Atomes de carbone à la surface de graphite observés par microscope à effet tunnel. Un atome est la plus petite partie d'un corps simple pouvant se combiner chimiquement avec un autre.
Atome et Dépôt de couche mince · Atome et Pulvérisation cathodique ·
Couche mince
Une couche mince est un revêtement dont l’épaisseur peut varier de quelques couches atomiques à une dizaine de micromètres.
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Nanomètre
Le nanomètre, de symbole nm, est une unité de longueur du Système international.
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Substrat (électronique)
En électronique, pour la fabrication de semi-conducteur (circuit intégré, transistor, diode), un support de silicium pur est utilisé.
Dépôt de couche mince et Substrat (électronique) · Pulvérisation cathodique et Substrat (électronique) ·
La liste ci-dessus répond aux questions suivantes
- Dans ce qui semble Dépôt de couche mince et Pulvérisation cathodique
- Quel a en commun Dépôt de couche mince et Pulvérisation cathodique
- Similitudes entre Dépôt de couche mince et Pulvérisation cathodique
Comparaison entre Dépôt de couche mince et Pulvérisation cathodique
Dépôt de couche mince a 38 relations, tout en Pulvérisation cathodique a 50. Comme ils ont en commun 4, l'indice de Jaccard est 4.55% = 4 / (38 + 50).
Références
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