Dépôt physique par phase vapeur et Vide (physique)

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Différence entre Dépôt physique par phase vapeur et Vide (physique)

Dépôt physique par phase vapeur vs. Vide (physique)

Montage expérimental d’une évaporation par dépôt chimique vapeur Le dépôt physique en phase vapeur (ou PVD pour l'anglais physical vapor deposition) est un ensemble de méthodes de dépôt sous vide de films minces. En physique, le vide est l'absence de toute matière.

Similitudes entre Dépôt physique par phase vapeur et Vide (physique)

Dépôt physique par phase vapeur et Vide (physique) ont une chose en commun (en Unionpédia): Dépôt chimique en phase vapeur.

Dépôt chimique en phase vapeur

Schéma d'un CVD Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l'anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux.

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Comparaison entre Dépôt physique par phase vapeur et Vide (physique)

Dépôt physique par phase vapeur a 9 relations, tout en Vide (physique) a 146. Comme ils ont en commun 1, l'indice de Jaccard est 0.65% = 1 / (9 + 146).

Références

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