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Gravure sèche et Vide (physique)

Raccourcis: Différences, Similitudes, Jaccard similarité Coefficient, Références.

Différence entre Gravure sèche et Vide (physique)

Gravure sèche vs. Vide (physique)

La gravure sèche (dry etching) est un ensemble de technique de gravure des semi-conducteurs en exposant le matériau à un bombardement d'ions (généralement sous forme de plasma). En physique, le vide est l'absence de toute matière.

Similitudes entre Gravure sèche et Vide (physique)

Gravure sèche et Vide (physique) ont 0 choses en commun (em Unionpédia).

La liste ci-dessus répond aux questions suivantes

Comparaison entre Gravure sèche et Vide (physique)

Gravure sèche a 15 relations, tout en Vide (physique) a 146. Comme ils ont en commun 0, l'indice de Jaccard est 0.00% = 0 / (15 + 146).

Références

Cet article montre la relation entre Gravure sèche et Vide (physique). Pour accéder à chaque article à partir de laquelle l'information a été extraite, s'il vous plaît visitez:

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