Canon à ions et Electron beam physical vapor deposition

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Différence entre Canon à ions et Electron beam physical vapor deposition

Canon à ions vs. Electron beam physical vapor deposition

Un canon à ions est un dispositif permettant la propulsion d'ions dans une direction prédéfinie. Evaporateur métallique « E-gun » utilisé au centre de recherche « Thales Research & Technology » du milieu des années 80 jusqu’en 2004 pour l’évaporation des sandwichs métalliques de contact ohmique et de grille. L’évaporation par faisceau d’électrons (aussi évaporation par faisceau électronique; en anglais: Electron-beam physical vapor deposition / EBPVD, aussi simplement electron-beam evaporation) est une forme de dépôt physique en phase gazeuse, plus spécifiquement d’évaporation sous vide, dans laquelle une anode cible sous vide poussé est bombardée par un faisceau d’électrons émis par un canon à électrons.

Similitudes entre Canon à ions et Electron beam physical vapor deposition

Canon à ions et Electron beam physical vapor deposition ont une chose en commun (en Unionpédia): Ion.

Ion

+) a comme logique d'avoir la même structure électronique que le gaz noble (cadre rouge) le plus proche. Un ion est un atome ou un groupe d'atomes portant une charge électrique, parce que son nombre d'électrons est différent de son nombre de protons.

Canon à ions et Ion · Electron beam physical vapor deposition et Ion · Voir plus »

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Comparaison entre Canon à ions et Electron beam physical vapor deposition

Canon à ions a 27 relations, tout en Electron beam physical vapor deposition a 84. Comme ils ont en commun 1, l'indice de Jaccard est 0.90% = 1 / (27 + 84).

Références

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