Dépôt de couche mince et Enduction centrifuge

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Différence entre Dépôt de couche mince et Enduction centrifuge

Dépôt de couche mince vs. Enduction centrifuge

Le dépôt de couche mince désigne l'ensemble des techniques qui permettent de déposer une couche mince ou film mince de matériau sur un substrat ou sur des couches déposées antérieurement. Schéma simplifié du procédé d'enduction centrifuge Laurell Technologies WS-400 spinner servant à appliquer une couche de résine photosensible à un wafer de silicium L'enduction centrifuge ou enduction par centrifugation ou dépôt à la tournette (plus connue sous son nom anglais de spin coating) est une technique de formation d'une couche mince et uniforme, par dépôt d’une solution de la substance du film, sur la surface plane d'un substrat qui tourne à vitesse élevée.

Similitudes entre Dépôt de couche mince et Enduction centrifuge

Dépôt de couche mince et Enduction centrifuge ont 3 choses en commun (em Unionpédia): Couche mince, Photolithographie, Semi-conducteur.

Couche mince

Une couche mince est un revêtement dont l’épaisseur peut varier de quelques couches atomiques à une dizaine de micromètres.

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Photolithographie

La photolithographie est l'ensemble des opérations permettant de transférer une image (généralement présente sur un masque) vers un substrat.

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Semi-conducteur

Un semi-conducteur est un matériau qui a les caractéristiques électriques d'un isolant, mais pour lequel la probabilité qu'un électron puisse contribuer à un courant électrique, quoique faible, est suffisamment importante.

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Comparaison entre Dépôt de couche mince et Enduction centrifuge

Dépôt de couche mince a 38 relations, tout en Enduction centrifuge a 10. Comme ils ont en commun 3, l'indice de Jaccard est 6.25% = 3 / (38 + 10).

Références

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